中温プロセス技術に着目した、車載・二輪向け光学イメージ応用の共同展示
RICH GOBO（欣泉光印）は、雍昇股份有限公司と再びタッグを組み、**2026年 台北国際自動車・二輪部品展示会（TAIPEI AMPA 2026）**に出展します。台北南港展覧館1号館4階にて、車載および二輪向け光学応用分野における最新技術成果と開発力を共同で展示します。
展示会情報
- 会期：2026年4月14日（火）～4月17日（金）
- 会場：台北南港展覧館 1号館 4階
- ブース番号：M0929（雍昇股份有限公司との共同出展）
中温プロセス技術の進化が拓く光学イメージの可能性
本展示では、RICH GOBOが中温条件下で実現した光学イメージ製造プロセスにおける技術的進化を重点的にご紹介します。
材料およびプロセスの最適化により、以下のような高品質な表現が可能となりました。
- 画像データに基づく精密なパターン再現
- 網点グラデーション表現
- 繊細な階調表現と高解像度制御
これらの技術は、車載・二輪向け光学部品における設計自由度と応用範囲を大きく広げます。会場では実際のサンプルを展示し、その違いを直接ご確認いただけます。
技術から応用へ、市場ニーズに応える共同開発
RICH GOBOは光学印刷およびイメージングプロセス技術を専門とし、雍昇股份有限公司は車載・二輪部品分野における豊富な応用・統合実績を有しています。本共同展示では、既存技術に加え、実用ニーズを踏まえた新たな開発方向もご紹介します。
一部の最新開発プロジェクトは本展示会にて初公開予定であり、詳細情報は会期後に順次発表いたします。